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シングルクリスタル基板
Created with Pixso. 4インチSGGG大口径基板、ガドリニウムガリウムガーネット単結晶、(111)EPIグレード研磨、1.6T/CPO光モジュール用ファラデーローテーター、大容量磁気光学膜エピタキシャル成長

4インチSGGG大口径基板、ガドリニウムガリウムガーネット単結晶、(111)EPIグレード研磨、1.6T/CPO光モジュール用ファラデーローテーター、大容量磁気光学膜エピタキシャル成長

ブランド名: Crystro
モデル番号: SCR-2026-08-26-03
支払条件: T/T、ウェスタンユニオン、
詳細情報
起源の場所:
中国
呼び径:
4インチ(Φ101.6mm)
結晶構造:
立方体、空間群 Ia3d
一定したに格子をつけなさい:
12.497±0.003Å
表面粗さ:
Ra ≤ 1 nm、EPI 対応
平坦度(最大-最小):
≤ 6 μm(中心有効面積の80%)
総厚さの変化:
≤ 6μm
転位密度:
≤ 10 cm⁻²(中心部80%)
格子の均一性:
フルウェーハ ≤ 0.003Å
誘電率:
ε ≈ 30
ハイライト:

ファラデーローテーター用4インチSGGG基板

,

ガドリニウム ガリウム ガーネット単結晶の基質

,

光モジュール用EPIグレード研磨基板

製品説明
4インチSGGG大尺度基板,ガドリニウムガリウムガーネット単結晶 (111) EPIグレードポリッシュ,1.6T/CPO光学モジュールのためのファラデー回転器,高容量磁光フィルムエピタキシ
 
4インチSGGG大型基板は,次世代の高速光通信 (1.6T/CPO) および大規模生産ラインのための高級仕様である.直径101.6 mm 標準厚さ800 ± 30 μm (またはカスタム)単結晶の成長技術に基づいている.全晶状晶状網の恒定均一性 ≤ 0.003 Å,外位密度 ≤ 10 cm−2,有効面積 ≥ 80%.3インチと比較して約75%増加,チップ1枚あたりコストを大幅に削減します.
 
大型のSGGG結晶の成長は,厳格な熱場制御,原材料の純度,および焼却プロセスを要求する技術的に要求されます.Czochralskiの成長と多段階の焼却によって最適化この製品は,低ストレス,低吸収,高均質な結晶品質を達成します. プライマリ/セカンドリーフラットとEPIグレードの超滑らかなポーリングと組み合わせると,高級マグネト光学フィルムエピタキシ機器の大規模生産要件を満たす.
主要な機能
1.6T/CPO時代のための高容量基板:
4インチの大きなサイズで,次世代高速モジュールローターの大量生産に適応し,ワッフルあたりより多くのチップ
チップ1台あたりコストが下がる:
3インチより 75% 大きい有効面積で,エピタクシー,切断,検査コストを減らし
高級マグネト光学フィルムエピタキシ:
高格子均一性は,大きな面積のBIGフィルム厚さと磁気光学性能一貫性を保証します
国内での代替のためのコア材料:
大型SGGG基板の海外独占を破り,国内光学モジュールのサプライチェーン独立を支援
 
 
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ブランド名: Crystro
モデル番号: SCR-2026-08-26-03
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中国
ブランド名:
Crystro
モデル番号:
SCR-2026-08-26-03
呼び径:
4インチ(Φ101.6mm)
結晶構造:
立方体、空間群 Ia3d
一定したに格子をつけなさい:
12.497±0.003Å
表面粗さ:
Ra ≤ 1 nm、EPI 対応
平坦度(最大-最小):
≤ 6 μm(中心有効面積の80%)
総厚さの変化:
≤ 6μm
転位密度:
≤ 10 cm⁻²(中心部80%)
格子の均一性:
フルウェーハ ≤ 0.003Å
誘電率:
ε ≈ 30
支払条件:
T/T、ウェスタンユニオン、
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ガドリニウム ガリウム ガーネット単結晶の基質

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4インチSGGG大尺度基板,ガドリニウムガリウムガーネット単結晶 (111) EPIグレードポリッシュ,1.6T/CPO光学モジュールのためのファラデー回転器,高容量磁光フィルムエピタキシ
 
4インチSGGG大型基板は,次世代の高速光通信 (1.6T/CPO) および大規模生産ラインのための高級仕様である.直径101.6 mm 標準厚さ800 ± 30 μm (またはカスタム)単結晶の成長技術に基づいている.全晶状晶状網の恒定均一性 ≤ 0.003 Å,外位密度 ≤ 10 cm−2,有効面積 ≥ 80%.3インチと比較して約75%増加,チップ1枚あたりコストを大幅に削減します.
 
大型のSGGG結晶の成長は,厳格な熱場制御,原材料の純度,および焼却プロセスを要求する技術的に要求されます.Czochralskiの成長と多段階の焼却によって最適化この製品は,低ストレス,低吸収,高均質な結晶品質を達成します. プライマリ/セカンドリーフラットとEPIグレードの超滑らかなポーリングと組み合わせると,高級マグネト光学フィルムエピタキシ機器の大規模生産要件を満たす.
主要な機能
1.6T/CPO時代のための高容量基板:
4インチの大きなサイズで,次世代高速モジュールローターの大量生産に適応し,ワッフルあたりより多くのチップ
チップ1台あたりコストが下がる:
3インチより 75% 大きい有効面積で,エピタクシー,切断,検査コストを減らし
高級マグネト光学フィルムエピタキシ:
高格子均一性は,大きな面積のBIGフィルム厚さと磁気光学性能一貫性を保証します
国内での代替のためのコア材料:
大型SGGG基板の海外独占を破り,国内光学モジュールのサプライチェーン独立を支援