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3-inch SGGG Wafer, Substituted Gadolinium Gallium Garnet, (111) Orientation, EPI Polished, Faraday Rotator Substrate for 400G/800G Optical Module Isolators

Name: 3-inch SGGG Wafer, Substituted Gadolinium Gallium Garnet, (111) Orientation, EPI Polished, Faraday Rotator Substrate for 400G/800G Optical Module Isolators
Brand: ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd.
SKU: SCR-2026-08-26-02
Price: 110.00 USD
Availability: InStock

ブランド名:	Crystro
モデル番号:	SCR-2026-08-26-02
支払条件:	T/T、ウェスタンユニオン、マネーグラム

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製品説明

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起源の場所:

中国

材料:

置換Gd₃Ga₅O₁₂

向き:

(111) ±0.1°

主要フラット:

[-110] ±2°

セカンダリフラット:

[-1-12] ±2°

直径許容差:

76.20±0.3mm

呼び径:

3インチ(Φ76.2mm)

一定したに格子をつけなさい:

12.497±0.003Å

平坦度(最大-最小):

≤ 6 μm（中心有効面積の80％）

ハイライト:

3-inch SGGG wafer Faraday rotator

Gadolinium Gallium Garnet substrate

EPI polished optical isolator substrate

製品説明

3-inch SGGG Wafer, Substituted Gadolinium Gallium Garnet, (111) Orientation, EPI Polished, Faraday Rotator Substrate for 400G/800G Optical Module Isolators The 3-inch SGGG epitaxial substrate is the mainstream specification for Faraday rotator mass production in the optical communications industry. With a diameter of 76.2 mm, standard thickness of 630 ± 30 μm, and (111) orientation, it uses in-house grown large-size SGGG single crystal. Precision-processed and EPI-grade super

タグ:

4-inch SGGG Large-Size Substrate, Gadolinium Gallium Garnet Single Crystal, (111) EPI-Grade Polished, Faraday Rotator for 1.6T/CPO Optical Modules, High-Capacity Magneto-Optical Film Epitaxy

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1-2-inch SGGG Substrate, Gadolinium Gallium Garnet Single Crystal, (111) Orientation, for YIG/BIG Magneto-Optical Film Epitaxy, Faraday Rotator R&D Sample

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セカンダリフラット:

[-1-12] ±2°

直径許容差:

76.20±0.3mm

呼び径:

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≤ 6 μm（中心有効面積の80％）

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