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| ブランド名: | Crystro |
| モデル番号: | JCR200608-05 |
| MOQ: | 1pc |
| 配達時間: | 3〜4週間 |
| 支払条件: | T/T,ウェスタンユニオン,マネーグラム,PayPal |
高功率レーザーのためのTSAGクリスタル ファラデー回転器
記述:
TSAGは完璧な磁気光学結晶で 可視線と赤外線波長領域で使用できます優れた熱および機械特性により,TSAGは次世代ファイバーレーザーに適した非常に信頼性の高い材料ですTGGと比較して,TSAGは1064nmで約20%高いVerdet定数と約30%低い吸収を持っています.
特徴:
大型ヴェルデ定数 ((48 radT-1m-1 at 1064 nm),TGGより約20%高い.
低吸収 (<3000 ppm/cm 1064 nm で),TGGより約 30% 少ない
高功率に対応する
隔離装置を小さくする
応用:
高功率レーザー用のTSAG結晶に基づくファラデー隔離器
イメージングアプリケーション: イメージングアプリケーションのためのTSAG結晶のスチンチレーション特性
CRYSTROはTGG結晶を供給する
| 伝播範囲 ((散装/未塗装) | 400~1600 nm |
| 結晶構造 | キュービック,スペースグループ Ia3d |
| 化学式 | Tb3Sc2Al3O12 |
| 格子パラメータ | a=12.3 Å |
| 成長方法 | チョクラルスキー |
| 密度 | 5.91g/cm3 |
| 溶融点 | 1970°C±10°C |
| オリエンテーション | ±15′ |
| 波面歪み | <λ/8 |
| 絶滅率 | >30 dB |
| 直径の許容度 | +0.00 mm/-0.05 mm |
| 容量 | +0.2 mm/-0.2 mm |
| シャムファー | 0.1 mm @ 45° |
| 平らさ | 633 nm で < λ/10 |
| パラレリズム | 3 ′ |
| 垂直性 | <5′ |
| 表面の質 | 恋愛 に つい て |
| ARコーティング | <0.3% @ 1064 nm |
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| ブランド名: | Crystro |
| モデル番号: | JCR200608-05 |
| MOQ: | 1pc |
| パッケージの詳細: | 透明できれいな箱 |
| 支払条件: | T/T,ウェスタンユニオン,マネーグラム,PayPal |
高功率レーザーのためのTSAGクリスタル ファラデー回転器
記述:
TSAGは完璧な磁気光学結晶で 可視線と赤外線波長領域で使用できます優れた熱および機械特性により,TSAGは次世代ファイバーレーザーに適した非常に信頼性の高い材料ですTGGと比較して,TSAGは1064nmで約20%高いVerdet定数と約30%低い吸収を持っています.
特徴:
大型ヴェルデ定数 ((48 radT-1m-1 at 1064 nm),TGGより約20%高い.
低吸収 (<3000 ppm/cm 1064 nm で),TGGより約 30% 少ない
高功率に対応する
隔離装置を小さくする
応用:
高功率レーザー用のTSAG結晶に基づくファラデー隔離器
イメージングアプリケーション: イメージングアプリケーションのためのTSAG結晶のスチンチレーション特性
CRYSTROはTGG結晶を供給する
| 伝播範囲 ((散装/未塗装) | 400~1600 nm |
| 結晶構造 | キュービック,スペースグループ Ia3d |
| 化学式 | Tb3Sc2Al3O12 |
| 格子パラメータ | a=12.3 Å |
| 成長方法 | チョクラルスキー |
| 密度 | 5.91g/cm3 |
| 溶融点 | 1970°C±10°C |
| オリエンテーション | ±15′ |
| 波面歪み | <λ/8 |
| 絶滅率 | >30 dB |
| 直径の許容度 | +0.00 mm/-0.05 mm |
| 容量 | +0.2 mm/-0.2 mm |
| シャムファー | 0.1 mm @ 45° |
| 平らさ | 633 nm で < λ/10 |
| パラレリズム | 3 ′ |
| 垂直性 | <5′ |
| 表面の質 | 恋愛 に つい て |
| ARコーティング | <0.3% @ 1064 nm |
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