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直径3インチのLaalo3

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August 04, 2020
Category Connection: シングルクリスタル基板
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タグ:
#laalo3基質 #単結晶の要素 #ランタンのアルミン酸塩
Brief: 高圧実験相のLaAlO3ウェーハ光学基板を発見してください。高温超伝導薄膜やマイクロ波用途に最適な両面研磨基板です。電子デバイス、触媒などにも最適です。
Related Product Features:
  • エピタキシャル成長用高温超伝導単結晶基板。
  • ペロブスカイト構造材料との優れた格子整合。
  • マイクロ波および誘電共振用途に適した低誘電損失。
  • 小さな熱膨張係数は、温度変化に対する安定性を保証します。
  • 良好な化学的安定性があり、25℃では鉱酸に不溶です。
  • 研磨された基板上で、透明から茶色に見え、双晶が観察できます。
  • 高性能を向上させるための、広いエネルギーギャップと大きな比表面積。
  • 良好な熱安定性、融点は2080℃。
FAQ:
  • LaAlO3ウェーハ光学基板の主な用途は何ですか？
    電子機器、触媒、高温燃料電池、セラミックス、下水処理、および高温超伝導薄膜のエピタキシャル成長のための基板材料として使用されます。
  • LaAlO3を基板材料として使用する利点は何ですか？
    LaAlO3は、小さな誘電率、低い誘電損失、良好な格子整合性、小さな熱膨張係数、良好な化学的安定性、広いエネルギーギャップ、大きな比表面積、および良好な熱安定性を提供します。
  • LaAlO3基板は高温下でどのように機能しますか？
    LaAlO3は2080℃という高い融点を持ち、熱安定性にも優れているため、燃料電池や電子デバイスなどの高温用途に適しています。
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