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6.52 G/Cm3密度の光学基質の単結晶の要素のよい熱安定性

中国 ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd. 認証
中国 ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd. 認証
よい速い配達および質の一見はやがてテストします。ありがとう!

—— Jhon Klus

私達の安定した製造者、非常に専門のチーム。

—— Clain

Crystroは私達の長期製造者です、私達はよい容量の製造者が付いているcoopertateに幸せであり、良質は、質私達のために非常に重要です。

—— Jarmila

オンラインです

6.52 G/Cm3密度の光学基質の単結晶の要素のよい熱安定性

6.52 G/Cm3 Density Optical Substrate Single Crystal Elements Good Thermal Stability
6.52 G/Cm3 Density Optical Substrate Single Crystal Elements Good Thermal Stability 6.52 G/Cm3 Density Optical Substrate Single Crystal Elements Good Thermal Stability

大画像 :  6.52 G/Cm3密度の光学基質の単結晶の要素のよい熱安定性

商品の詳細:

起源の場所: 中国
ブランド名: Crystro
証明: SGS
モデル番号: CR20200108-5

お支払配送条件:

最小注文数量: 1 羽
価格: Negotiable
パッケージの詳細: 箱パッケージ
受渡し時間: 3-4 週間
支払条件: T/T、ウェスタン ・ ユニオン、マネーグラム、ペイパル
供給の能力: 1000pcs/month
詳細製品概要
設置方向: <100>、<111> タイプ: 円形、正方形、平たい箱
直径: 1"、2"、3つ 厚さ: 0.5mm、1mm
研磨: 磨かれる二重側面 表面仕上げ: < 10A="">
ハイライト:

single crystal elements

,

laalo3 substrate

販売のランタン-アルミン酸塩-のためのLaAlO3光学基質LaAlO3 -基質

 

LaAlO3は高温超伝導の単結晶の基質です。それは高温超伝導の薄膜および巨大な磁気薄膜のエピタキシアル成長のためのよい基質材料です。その誘電性の特性は低損失のマイクロウェーブおよび誘電体共鳴適用のために適しています。

 

適用:

 

電子デバイス、触媒作用、高温燃料電池、製陶術、汚水処理、基質材料

 

主な利点:

 

小さい比誘電率;低い誘電性損失;よい格子一致;小さい熱拡張係数;よい化学安定性;広いエネルギー ギャップ;大きい比表面積区域;ある特定の活動;よい熱安定性

 

主要な特性:

 

  典型的な物理的性質
結晶構造 立方a=3.79オングストローム
成長方法 Czochralski
密度 6.52 g/cm3
溶解ポイント 2080年のoc
熱拡張 10 (x10-6/oc
比誘電率 | 25
10のGHzの損失のタンジェント ~3x10-4 @ 300K、~0.6 x10-4 @77K
色および出現 ブラウンに対して透明アニーリングの状態に基づいていました。磨かれた基質の目に見える双生児
化学安定性 150 oc H3PO3 at>の25 ocおよびsolubleでミネラル酸で不溶解性

連絡先の詳細
ANHUI CRYSTRO CRYSTAL MATERIALS Co., Ltd.

コンタクトパーソン: roy_luo

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